在合金分析儀的XRF分析法中，從X光發(fā)射管里放射出來的高能初級射線光子會(huì)撞擊樣本元素。這些初級光子含有足夠的能量可以將zui里層即K層或L層的電子撞擊脫軌。這時(shí)，原子變成了不穩(wěn)定的離子。由于電子本能會(huì)尋求穩(wěn)定，外層L層或M層的電子會(huì)進(jìn)入彌補(bǔ)內(nèi)層的空間。在這些電子從外層進(jìn)入內(nèi)層的過程中，它們會(huì)釋放出能量，我們稱之為二次X射線光子。而整個(gè)過程則稱為螢光輻射。每種元素的二次射線都各有特征。而X射線光子螢光輻射產(chǎn)生的能量是由電子轉(zhuǎn)換過程中內(nèi)層和外層之間的能量差決定的。